OU Portal
Log In
Welcome
Applicants
Z6_60GI02O0O8IDC0QEJUJ26TJDI4
>
Publ3 search
Error:
Javascript is disabled in this browser. This page requires Javascript. Modify your browser's settings to allow Javascript to execute. See your browser's documentation for specific instructions.
{}
Našeptávač:
Přidat autora k záznamu
Zavřít
Dále
Dále
Zavřít
Zavřít
Publikační činnost
Probíhá načítání, čekejte prosím...
publicationId :
tempRecordId :
actionDispatchIndex :
navigationBranch :
pageMode :
tabSelected :
isRivValid :
Typ záznamu:
RUV - Certifikovaný záznam
Domácí pracoviště:
Katedra grafiky a kresby (50220)
Název:
LITHO-KIELCE 2015
Citace
Sibinský, M. LITHO-KIELCE 2015. Instalace uměleckého díla. Výsledný kód: CMZ. RUV ID: 26982. 11.03.2016 - Biuro Wystaw Artystycznych, Polsko, Kielce, 11.03.2016 - 08.04.2016.
Podnázev
null
Rok vydání:
2016
Obor:
Klíčová slova anglicky:
null
Popis v původním jazyce:
Litografie již před více než 200 lety přinesla do oblasti grafického vizuálního jazyku nové možnosti a prostředky. Kámen jako matrice se pro řadu umělců nestala jen grafickou technikou a možností výsledný obraz multiplikovat, ale prostorem vizuálních prostředků, které přinášejí určité kvality a ideové strategie, jenž umožňuje právě jen litografie. Mezinárodní projekt zaměřený na litografii LITHO-KIELCE 2015, organizovaný Biurem Wystaw Artystycznych w Kielcach ve spolupráci se Stowarzyszeniem Miedzynarodowym Triennale Grafiki Krakow, vnímám jako mapování a zároveň podporu autorů, kteří pracují s technikou litografie, jejich přesahy a také ji dále ve svých projektech rozvíjejí, prokazují její možnosti, aktuálnost a také prostor pro experimentování. Všechny tyto aspekty jednoznačně poukazují na fakt, že princip tisku z plochy, tedy litografie, je v současném uměleckém provozu neustále aktuálním médiem a to v mezinárodním kontextu. Neboť spektrum zemí, které jednotliví autoři zastupovali, bylo opravdu široké a přesahovalo evropský region. Projekt byl pod kurátorským vedením Stanislawy Zacharko a Pawla Fraczkiewicze.
Popis v anglickém jazyce:
null
Seznam ohlasů
Ohlas
R01:
Complementary Content
Deferred Modules
${title}
${badge}
${loading}
Deferred Modules