OU Portal
Log In
Welcome
Applicants
Z6_60GI02O0O8IDC0QEJUJ26TJDI4
Error:
Javascript is disabled in this browser. This page requires Javascript. Modify your browser's settings to allow Javascript to execute. See your browser's documentation for specific instructions.
{}
Našeptávač:
Přidat autora k záznamu
Close
Next
Next
Close
Close
Publikační činnost
Probíhá načítání, čekejte prosím...
publicationId :
tempRecordId :
actionDispatchIndex :
navigationBranch :
pageMode :
tabSelected :
isRivValid :
Record type:
RUV - Certifikovaný záznam
Home Department:
Katedra malby (50230)
Title:
Výstava, kde hanba nebýt a chyba vystavovat
Citace
Kowolowski, F. Výstava, kde hanba nebýt a chyba vystavovat. Instalace uměleckého díla. Výsledný kód: DMZ. RUV ID: 17726. 04.06.2015 - Galerie Kvalitář, Česká republika, Praha, 04.06.2015 - 30.07.2015.
Subtitle
null
Publication year:
2015
Obor:
Key words in English:
installation ;conceptual art ;institutional arts
Annotation in original language:
Aktuální výstava v galerii Kvalitář tematizuje jeden ze základních a přitom ne příliš často zmiňovaných výstavních principů, spojených se vztahem odborné veřejnosti ke skupinovým výstavám a přehlídkám, na kterých má možnost participovat. V rámci projektu je očekávatelná prezentace artefaktu redukována na uvedení jména autora. Výběr „zúčastněných“ umělců odpovídá standardnímu způsobu, jakým je k podobným přehlídkám kurátorsky přistupováno. Osvědčené značky jsou doplněny méně frekventovanými jmény tak, jak to autorovi výstavy koncepčně i jinak vyhovuje.
Annotation in english language:
The current exhibition at the gallery sampler theme of one of the basic, yet not often mentioned exhibition principles associated with related professionals to group exhibitions and shows, where has the opportunity to participate. The project is expectable presentation artifact reduced to an anonymous form. Selecting "participating" artists corresponds to the standard method, which is similar to the shows curator approached. The best brands are supplemented with less common names such as the author of the exhibition concept and otherwise complies.
References
Reference
R01:
Complementary Content
Deferred Modules
${title}
${badge}
${loading}
Deferred Modules