OU Portal
Log In
Welcome
Applicants
Z6_60GI02O0O8IDC0QEJUJ26TJDI4
Error:
Javascript is disabled in this browser. This page requires Javascript. Modify your browser's settings to allow Javascript to execute. See your browser's documentation for specific instructions.
{}
Zavřít
Publikační činnost
Probíhá načítání, čekejte prosím...
publicationId :
tempRecordId :
actionDispatchIndex :
navigationBranch :
pageMode :
tabSelected :
isRivValid :
Typ záznamu
*
:
stať ve sborníku (D)
Domácí pracoviště
*
:
Katedra technické a pracovní výchovy (45070)
Název
*
:
The RF Plasma-Chemical Reactor with the System of Multi-Hollow-Cathodes for the Surface and Coating Technologie
Citace :
Kapoun, K. a Hubička, Z. The RF Plasma-Chemical Reactor with the System of Multi-Hollow-Cathodes for the Surface and Coating Technologie.
In:
XXIII ICPIG: Sborník konference XXIII ICPIG 1997-07-17 .
Toulouse: Universita P. Sabattier Toulouse, 1997. Universita P. Sabattier Toulouse, 1997. s. 228-229. ISBN 2-86883-323-3.
Podnázev :
Rok
*
:
1997
Obor
*
:
Mechanika tekutin
Počet stran
*
:
Strana od
*
:
228
Strana do
*
:
229
Forma vydání
*
:
Kód ISBN
*
:
2-86883-323-3
Kód ISSN :
Název sborníku
*
:
Sborník konference XXIII ICPIG
Sborník :
Název nakladatele
*
:
Universita P. Sabattier Toulouse
Místo vydání
*
:
Toulouse
Stát vydání :
Název konference :
XXIII ICPIG
Místo konání konference
*
:
Datum zahájení konference
*
:
Typ akce podle státní
příslušnosti účastníků akce
*
:
Kód UT WoS :
EID :
Klíčová slova anglicky
*
:
Popis v původním jazyce
*
:
Popis v anglickém jazyce
*
:
Typ zdroje financování výsledku
*
:
Seznam projektů :
ID Projektu
Název projektu
Seznam ohlasů :
Ohlas
R01:
Complementary Content
Deferred Modules
${title}
${badge}
${loading}
Deferred Modules