OU Portal
Log In
Welcome
Applicants
Z6_60GI02O0O8IDC0QEJUJ26TJDI4
Error:
Javascript is disabled in this browser. This page requires Javascript. Modify your browser's settings to allow Javascript to execute. See your browser's documentation for specific instructions.
{}
Zavřít
Publikační činnost
Probíhá načítání, čekejte prosím...
publicationId :
tempRecordId :
actionDispatchIndex :
navigationBranch :
pageMode :
tabSelected :
isRivValid :
Typ záznamu:
stať ve sborníku (D)
Domácí pracoviště:
Katedra technické a pracovní výchovy (45070)
Název:
The RF Plasma-Chemical Reactor with the System of Multi-Hollow-Cathodes for the Surface and Coating Technologie
Citace
Kapoun, K. a Hubička, Z. The RF Plasma-Chemical Reactor with the System of Multi-Hollow-Cathodes for the Surface and Coating Technologie.
In:
XXIII ICPIG: Sborník konference XXIII ICPIG 1997-07-17 .
Toulouse: Universita P. Sabattier Toulouse, 1997. Universita P. Sabattier Toulouse, 1997. s. 228-229. ISBN 2-86883-323-3.
Podnázev
Rok vydání:
1997
Obor:
Mechanika tekutin
Počet stran:
Strana od:
228
Strana do:
229
Forma vydání:
Kód ISBN:
2-86883-323-3
Kód ISSN:
Název sborníku:
Sborník konference XXIII ICPIG
Sborník:
Název nakladatele:
Universita P. Sabattier Toulouse
Místo vydání:
Toulouse
Stát vydání:
Název konference:
XXIII ICPIG
Místo konání konference:
Datum zahájení konference:
Typ akce podle státní
příslušnosti účastníků akce:
Kód UT WoS:
EID:
Klíčová slova anglicky:
Popis v původním jazyce:
Popis v anglickém jazyce:
Seznam ohlasů
Ohlas
R01:
Complementary Content
Deferred Modules
${title}
${badge}
${loading}
Deferred Modules
Probíhá načítání, čekejte prosím...